技術(shù)
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⑵ 工藝流程和條件:半制品→預(yù)處理→底涂→烘干→第二次涂遮光層→烘干→第三次涂表層→烘干 工藝條件:預(yù)處理,預(yù)防水(處方同前),烘干或平軋光。 涂層: 底涂:用浮刀法銳角刮刀。 第二次遮光層:用浮刀法圓形刮刀,必要時可重復(fù)一次。 第三次表層:用浮刀法銳角刮刀。 烘干:90~100℃。