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1、熔融體涂層 

涂層技術的創(chuàng)新是多方面的，其中涂層材料的研發(fā)是最活躍的。新的、優(yōu)秀的涂層材料的出現(xiàn)，往往會催生新的涂層設備、工藝和產(chǎn)品，所以一直是涂層工作者注視的焦點。近年來，引人注目的是熱塑性涂層劑熔融體涂層的開發(fā)，對涂層技術的發(fā)展有著重大的影響。

對涂層劑，大致有以下三個方面的要求。

① 工藝性能好，涂層操作容易掌握、容易調(diào)節(jié)，品種也多；

② 經(jīng)濟，即"成本/功能"較低；

③ 對環(huán)境友好，即節(jié)約資源、減少污染，使用可回用或可再生的產(chǎn)品。

長時間來，我們使用的溶劑型涂層劑工藝性能比較好，所以廣泛使用，用量也比較大。但由于使用大量有機溶劑，很不經(jīng)濟；且它們易燃、有毒，帶來很多麻煩；最令人不安的是它們對環(huán)境的危害。因此想方設法減少或消除這些缺點，例如煙道氣的噴淋吸收法、單一溶劑法、焚燒法等，效果都不理想。亦有人想徹底不用溶劑或分散媒介，即研制100%含固量的涂層劑。他們用預聚體代替溶劑，使整個涂層材料具有必需的流動性，然后在涂布后的固化工序中，完成聚合反應。這項研究工作持續(xù)了許多年，仍未成功。

而最近幾年發(fā)展很快的熔融體涂層，才真正實現(xiàn)了無溶劑，也不用水作分散媒介的目標，它用的原料主要是熱塑性聚氨酯，通過下列三類設備進行涂布：

(1)單螺桿擠出機后接槽口模，熱塑性粒料在擠出機中塑化熔融，然后通過槽口模形成流涎膜，用一對輥筒將膜壓在基布上；

(2)在熔融槽中或一對熔融輥將粒料熔融，由輥與輥之間狹隙控制膜的厚度，然后通過加壓輥、轉(zhuǎn)移輥、軋紋輥等等和基布復合、冷卻和進一步加工。這一類設備價格比單螺桿擠出機低一些，是目前熔融體涂層設備的主流；

(3)圓網(wǎng)涂頭和圓網(wǎng)印花機結構大致相同，在刮刀和圓網(wǎng)之間安排一根送料管，把熔融體送進圓網(wǎng)，依靠刮刀壓力，使熔融體透過圓網(wǎng)粘在基布上。圓網(wǎng)涂頭的關鍵在于用循環(huán)熱空氣將圓網(wǎng)及周邊區(qū)域均勻加熱，并保持在一定溫度范圍內(nèi)，才能使涂布操作穩(wěn)定地進行。 

這三類設備各有特長，擠出法可以得到完整的薄膜，而多輥系統(tǒng)、圓網(wǎng)涂頭可以作點涂，也可以涂出圖案花紋。這三類設備也可以作層壓機，涂層材料是粘合劑，把兩層薄片粘在一起。

由于熔融體涂層、層壓的設備成功用于生產(chǎn)，對環(huán)境的好處及在經(jīng)濟上、產(chǎn)品質(zhì)量上的優(yōu)點是很明顯的。使用這類設備，完全免去了烘箱，節(jié)省了投資，節(jié)省了烘箱消耗的大量能源，烘燥過程中所產(chǎn)生的質(zhì)量病疵也隨之消失了。目前熔融體涂層設備價格比較高，生產(chǎn)的品種也比較少，不能期待它完全取代溶劑型涂層和水分散體涂層，但它的優(yōu)越性是明顯的，它代表涂層工藝發(fā)展的一個方向。

2、氣-固相涂層

另一個有意義的發(fā)展是氣-固相涂層工藝的出現(xiàn)，文獻上稱之氣相沉積法，即利用物理的手段，將涂層材料的蒸汽沉積在基布上。真空涂鋁和磁控濺射涂合金的技術，都屬于這種方法，但近年來出現(xiàn)的大氣壓下等離子體加工法有了兩個突破：在大氣壓下加工，不必局限在真空的容器里，使加工處理簡便易行，有人稱贊它是耐用的、廉價的、易調(diào)整的、多功能的方法；其次，涂層材料不限于金屬，也可涂非金屬，現(xiàn)在已有電暈放電外加氣溶膠噴射器的技術，在等離子體的作用下，氣溶膠內(nèi)的物質(zhì)會和基布纖維發(fā)生反應，從而提升了織物的功能。

等離子體加工最早用于整理織物、涂層織物的前處理，因為它能清潔、刻蝕纖維表面或使纖維表面變性，使原來光滑的表面變成凹凸不平，從而提升了整理的效果；或使原來呈化學惰性的材料獲得更好的粘結力，因而成功地應用到聚四氟乙烯膜的層壓織物的生產(chǎn)過程中。這種刻蝕發(fā)生在纖維的淺表面，不會影響纖維的力學性能。

在等離子體加工時，使用氦氣和三氟甲烷(或其它碳氟化合物)為介質(zhì)，能在刻蝕作用的同時，在纖維表面導入含氟基團，形成很薄的拒水層，這對于原來有親水性的織物來說(如棉、絲、維綸)，既有拒水性，又不失其透氣透濕性，加工方法又很簡單，這是個很好拒水整理的方法。

均勻的等離子體處理器配上均勻的氣溶膠噴射器，可使織物獲得更多的功能，如抗菌性、防水解性、防靜電(積聚)性、聚氨酯涂層膜的抗抓刮性等等。

大氣壓下等離子體加工技術，是完全不用溶劑、不用水的氣固相加工方法，既經(jīng)濟而無公害，它使傳統(tǒng)整理加工時繁復的過程變得十分簡單、所以它被認為是21世紀最有潛力的新技術。