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雙溫對置擺蕩式染樣機
發布時間：2011-03-10
雙溫對置擺蕩式染樣機
發明專利號：ZL200510039068.1
雙溫對置擺蕩式染樣機
XW-BDR系列擺蕩式染樣機，是針對振蕩式染樣機有煩人的振動和噪聲以及壽命短而研制成功的。它應用往復慣性力完全平衡原理，采用對置活塞式發動機的成熟結構和四連桿平擺機構，極限工作速度遠比振蕩機高。它幾乎沒有煩人的振動和噪聲，大大提高勻染性和工作壽命，該機勝任振蕩式染樣機的全部工作，屬于環保型產品。
主要技術參數
1、加熱介質：水
2、工作溫度：室溫-98°C
3、杯子容積（ml）：100，250，300
4、杯子數量：12和24
5、控溫精度：±0.5℃
6、加熱電源：AC380V50Hz
7、控制電源：AC220V50Hz
8、擺蕩速度：無級調節≤200次/分
9、可提供500ml，800ml特殊規格